首页 > 专利 > 杭州电子科技大学 > 一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置专利详情

一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置   0    0

有效专利 查看PDF
专利申请流程有哪些步骤?
专利申请流程图
申请
申请号:指国家知识产权局受理一件专利申请时给予该专利申请的一个标示号码。唯一性原则。
申请日:提出专利申请之日。
2015-06-11
申请公布
申请公布指发明专利申请经初步审查合格后,自申请日(或优先权日)起18个月期满时的公布或根据申请人的请求提前进行的公布。
申请公布号:专利申请过程中,在尚未取得专利授权之前,国家专利局《专利公报》公开专利时的编号。
申请公布日:申请公开的日期,即在专利公报上予以公开的日期。
2015-12-09
授权
授权指对发明专利申请经实质审查没有发现驳回理由,授予发明专利权;或对实用新型或外观设计专利申请经初步审查没有发现驳回理由,授予实用新型专利权或外观设计专利权。
2017-03-01
预估到期
发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权期限为十年,外观设计专利权期限为十五年,均自申请日起计算。专利届满后法律终止保护。
2035-06-11
基本信息
有效性 有效专利 专利类型 发明专利
申请号 CN201510318594.5 申请日 2015-06-11
公开/公告号 CN105032810B 公开/公告日 2017-03-01
授权日 2017-03-01 预估到期日 2035-06-11
申请年 2015年 公开/公告年 2017年
缴费截止日
分类号 B08B3/02 主分类号 B08B3/02
是否联合申请 独立申请 文献类型号 B
独权数量 1 从权数量 4
权利要求数量 5 非专利引证数量 0
引用专利数量 6 被引证专利数量 0
非专利引证
引用专利 CN2037267U、CN103316858A、CN2877882Y、CN204107907U、CN203484366U、JP特开2007-237131A 被引证专利
专利权维持 3 专利申请国编码 CN
专利事件 事务标签 公开、实质审查、授权
申请人信息
申请人 第一申请人
专利权人 杭州电子科技大学 当前专利权人 杭州电子科技大学
发明人 田晓庆、潘华辰、吴文吉、杨怡君、李国民 第一发明人 田晓庆
地址 浙江省杭州市下沙高教园区2号大街 邮编
申请人数量 1 发明人数量 5
申请人所在省 浙江省 申请人所在市 浙江省杭州市
代理人信息
代理机构
专利代理机构是经省专利管理局审核,国家知识产权局批准设立,可以接受委托人的委托,在委托权限范围内以委托人的名义办理专利申请或其他专利事务的服务机构。
浙江杭州金通专利事务所有限公司 代理人
专利代理师是代理他人进行专利申请和办理其他专利事务,取得一定资格的人。
王佳健
摘要
本发明公开了一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置。本发明中的机壳是一个包含多个观察窗口的长方体,机壳的正侧面可整体向上开启,观察盖设于其正侧面;内框结构位于整体机壳内;内框结构中的内框支撑座位于整个内框结构的底部,内框支架的四面布置了网状钢架,网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管,内框前盖与观察盖的位置对应;滑动模块中的导轨座上架设有滑轨,移动滑块与滑轨配合,移动滑块在滑轨上移动时,带动滑动涡流管支架移动,仪器放置架位于移动滑块的路径上,用于放置待清洗的仪器设备。本发明不仅可以快速、高效地对深海仪器、设备等进行清洗,也能满足仪器清洁度的要求,并且不会造成二次污染。
  • 摘要附图
    一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置
  • 说明书附图:图1
    一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置
  • 说明书附图:图2
    一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置
  • 说明书附图:图3
    一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置
  • 说明书附图:图4
    一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置
  • 说明书附图:图5
    一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置
法律状态
序号 法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
1 2017-03-01 授权
2 2015-12-09 实质审查的生效 IPC(主分类): B08B 3/02 专利申请号: 201510318594.5 申请日: 2015.06.11
3 2015-11-11 公开
权利要求
权利要求书是申请文件最核心的部分,是申请人向国家申请保护他的发明创造及划定保护范围的文件。
1.一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置,包括整体机壳、观察盖、内框结构、水泵部分和操作界面,其特征在于:其中整体机壳是一个包含多个观察窗口的长方体,整体机壳的正侧面可整体向上开启,观察盖设于其正侧面;内框结构位于整体机壳内;所述内框结构包含内框支撑座,内框前盖,涡流导流管,内框支架和滑动模块;内框支撑座位于整个内框结构的底部,内框支架的四面布置了网状钢架,网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管,内框前盖与观察盖的位置对应;所述滑动模块包含导轨座,仪器放置架,滑动涡流管支架,移动滑块和滑轨,导轨座上架设有滑轨,移动滑块与滑轨配合,移动滑块在滑轨上移动时,带动滑动涡流管支架移动,仪器放置架用于放置待清洗的仪器设备,其位于移动滑块的路径上;
所述的涡流导流管包含涡流预流管、水管接头、转动接头、水流出口和接头固定装置;
水管接头由接头固定装置固定,涡流预流管、转动接头均与水管接头连接;水流出口位于转动接头上。

2.根据权利要求1所述的一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置,其特征在于:内框结构的长度为2~5 m,宽为1~3 m,高为1~3 m;网状钢架上螺旋线的螺升角变化范围为:5°~45°。

3.根据权利要求1所述的一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置,其特征在于:滑动涡流管支架的移动范围为0.2L~0.8L,其中L为内框结构的长度。

4.根据权利要求1所述的一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置,其特征在于:内框结构的底部布置有排水道,便于将清洗后的污水顺着排水道流出。

5.根据权利要求1所述的一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置,其特征在于:所述的涡流预流管长度为5~20 mm,涡流预流管的直径为10~20 mm,涡流预流管内水流速度在2 m/s以上。
说明书

技术领域

[0001] 本发明可以运用于仪器、仪表等湖泊或者海洋测量设备的清洗领域,具体涉及一种可产生涡流的水射流清洗装置。

背景技术

[0002] 在海洋、湖泊等相关领域的探测和科考实验中,众多工况都需将实验仪器长时间放置在某特定环境下。使用结束收回后,仪器或设备表面都会残留大量的污染物或者腐蚀物。这些污物包括海水中的有机物、藻类等水生物和泥土、砂石等。这些物质长期残留在仪器设备表面,会造成仪器精度下降甚至设备损害。所以,每次实验检测完成后,都必须及时清洗这些检测设备与仪器。
[0003] 传统的清洗方式主要是检测人员的人工清洗方式,清洗过程中,工作人员直接用海水或者湖水冲洗设备表面或者内部。所以,清洁度并不能完全保证,而且清洗过程相对开放,容易造成工作环境的污染。甚至可能污染部分检测设备或仪器的关键部件。因此,亟需发明一种封闭环境下,半自动清洗深海检测设备或者元件的设备。

发明内容

[0004] 本发明针对现有技术的不足,提供了一种涡流式水射流仪器设备的清洗装置。
[0005] 本发明包括整体机壳、观察盖、内框结构、水泵部分和操作界面,其中机壳是一个包含多个观察窗口的长方体,机壳的正侧面可整体向上开启,观察盖设于其正侧面;内框结构位于整体机壳内;所述内框结构包含内框支撑座,内框前盖,涡流导流管,内框支架和滑动模块。内框支撑座位于整个内框结构的底部,内框支架的四面布置了网状钢架,网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管,内框前盖与观察盖的位置对应;所述滑动模块包含导轨座,仪器放置架,滑动涡流支架,移动滑块和滑轨,导轨座上架设有滑轨,移动滑块与滑轨配合,移动滑块在滑轨上移动时,带动滑动涡流管支架移动,仪器放置架用于放置待清洗的仪器设备,其位于移动滑块的路径上。
[0006] 本发明具有的有益效果是:本发明不仅可以快速、高效地对深海仪器、设备等进行清洗,也能满足仪器清洁度的要求,并且不会造成二次污染。

实施方案

[0012] 以下结合附图对本发明作进一步描述。
[0013] 如图1所示,本发明实施例主要由五部分组成。包括整体机壳1、观察盖2、内框结构3、水泵部分4和操作界面5,其中机壳1是一个包含多个观察窗口的长方体,机壳1的正侧面可整体向上开启,观察盖设于其正侧面;内框结构3位于整体机壳1内。仪器整体外壳简单,采用一般机床结构设计。2.观察盖可以在工作时候关闭,防止工作过程中水体的外溅。3.内框结构是本装置的关键,其包含五个部分。4.水泵部分主要是一个水泵的空间位置和分布。
5.用户操作界面,主要是调节装置的清洗位置和工作时间的设定。
[0014] 如图2所示,内框结构3包含内框支撑座3-1,内框前盖3-2,涡流导流管3-3,内框支架3-4和滑动模块3-5。内框支撑座3-1位于整个内框结构3的底部,内框支架3-4的四面布置了网状钢架,网状钢架上按螺旋线规律布置一系列涡流导流管3-3,内框前盖3-2与观察盖的位置对应,内框结构3的长度为2~5 m,宽为1~3 m,高为1~3 m;网状钢架上螺旋线的螺升角变化范围为:5°~45°,内框结构的底部还布置有排水道,便于将清洗后的污水顺着排水道流出,参见图5。
[0015] 如图3所示,滑动模块3-5包含导轨座3-5-1,仪器放置架3-5-2,滑动涡流支架3-5-3,移动滑块3-5-4和滑轨3-5-5,导轨座3-5-1上架设有滑轨3-5-5,移动滑块3-5-4与滑轨3-
5-5配合,移动滑块在滑轨上移动时,带动滑动涡流管支架3-5-3移动,仪器放置架3-5-2用于放置待清洗的仪器设备,其位于移动滑块的路径上,仪器放置架还有洗涤液(粉)盒,机器工作2-3分钟后,盒子自动打开借助涡流式水射流将洗涤液(粉)均匀喷洒在仪器、仪表上,滑动涡流管支架的移动范围为0.2L~0.8L,其中L为内框结构的长度,移动范围的设置是为了针对不同尺寸大小的仪器设备。
[0016] 如图4所示,涡流导流管3-3包含涡流预流管3-3-1、水管接头3-3-2、转动接头3-3-3、水流出口3-3-4和接头固定装置3-3-5;水管接头3-3-2由接头固定装置3-3-5固定,涡流预流管3-3-1、转动接头3-3-3均与水管接头3-3-2连接;水流出口3-3-4位于转动接头3-3-3上,涡流预流管3-3-1长度为5~20 mm,涡流预流管的直径为10~20 mm,涡流管内水流速度在2 m/s以上涡流管内框接头处偏心距为0.5-1 mm。
[0017] 该装置的工作过程:先依据需清洗仪器或者设备大小,调整仪器放置架的位置,再将仪器放置在仪器放置架上,并用夹具将其夹紧、固定。依据仪器设备的污浊程度酌情添加一定的洗涤液(粉),根据仪器的清洗区域和清洗要求,移动滑动导流管支架,以达到节约用水和高效清洁的目的。
[0018] 调整好导管的位置再锁死滑块上面的螺丝,并固定滑动导流管支架的位置。盖上内框前盖,关闭观察盖。在操作面板选择工作时间,工作管路,工作水压大小,然后,将打开水龙头,并将出水管道放入水槽中,在操作面板中点击开始按钮,仪器进入工作。在设备工作过程中,水泵供水,高速水流经涡流导流管,进入清洗装置内部。水体进入涡流管后形成惯性涡流,并在水管接头内导向转动接头,从清洗装置内壁出水口处旋动射出,从而形成了涡流式水射流,以达到整个设备或者装置清洗的目的。

附图说明

[0007] 图1是本发明结构示意图;
[0008] 图2是内框结构图;
[0009] 图3是内框结构中滑动模块结构图;
[0010] 图4是涡流导流管结构图;
[0011] 图5是装置的排水过程图。
专利联系人(活跃度排行)
版权所有:盲专网 ©2023 zlpt.xyz  蜀ICP备2023003576号