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一种集成电路及其组合电容与实现方法   0    0

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专利申请流程有哪些步骤?
专利申请流程图
申请
申请号:指国家知识产权局受理一件专利申请时给予该专利申请的一个标示号码。唯一性原则。
申请日:提出专利申请之日。
2014-10-11
申请公布
申请公布指发明专利申请经初步审查合格后,自申请日(或优先权日)起18个月期满时的公布或根据申请人的请求提前进行的公布。
申请公布号:专利申请过程中,在尚未取得专利授权之前,国家专利局《专利公报》公开专利时的编号。
申请公布日:申请公开的日期,即在专利公报上予以公开的日期。
2015-11-25
授权
授权指对发明专利申请经实质审查没有发现驳回理由,授予发明专利权;或对实用新型或外观设计专利申请经初步审查没有发现驳回理由,授予实用新型专利权或外观设计专利权。
2019-12-24
预估到期
发明专利权的期限为二十年,实用新型专利权期限为十年,外观设计专利权期限为十五年,均自申请日起计算。专利届满后法律终止保护。
2034-10-11
基本信息
有效性 有效专利 专利类型 发明专利
申请号 CN201410532500.X 申请日 2014-10-11
公开/公告号 CN104218100B 公开/公告日 2019-12-24
授权日 2019-12-24 预估到期日 2034-10-11
申请年 2014年 公开/公告年 2019年
缴费截止日
分类号 H01L29/92H01L21/02H01L27/02 主分类号 H01L29/92
是否联合申请 独立申请 文献类型号 B
独权数量 1 从权数量 8
权利要求数量 9 非专利引证数量 0
引用专利数量 3 被引证专利数量 0
非专利引证
引用专利 US2014/0266408A1、CN101211849A、US5869368A 被引证专利
专利权维持 8 专利申请国编码 CN
专利事件 转让 事务标签 公开、实质审查、申请权转移、授权、权利转移
申请人信息
申请人 第一申请人
专利权人 深圳市三炎科电子科技有限公司 当前专利权人 山东润蒙应急救援装备有限公司
发明人 王少卿 第一发明人 王少卿
地址 广东省深圳市宝安区福永街道和平社区同富裕工业区同富一路A座厂房二楼 邮编 518000
申请人数量 1 发明人数量 1
申请人所在省 广东省 申请人所在市 广东省深圳市
代理人信息
代理机构
专利代理机构是经省专利管理局审核,国家知识产权局批准设立,可以接受委托人的委托,在委托权限范围内以委托人的名义办理专利申请或其他专利事务的服务机构。
深圳众邦专利代理有限公司 代理人
专利代理师是代理他人进行专利申请和办理其他专利事务,取得一定资格的人。
崔亚军
摘要
本发明提供了一种集成电路及其组合电容与实现方法,其中,所述组合电容,其包括设置在集成电路中的MOS器件;所述MOS器件上垒加电容材料,与所述MOS器件共同形成一组合电容。采用上述方案,在集成电路版图设计中,在同样的面积中可以得到更高的容值,以此来达到缩减面积,降低芯片成本,并且给集电电路版图电容改版提供便捷,便于改图,为集成电路原理图设计提供更多的选择与操作,具有很高的市场应用价值。
  • 摘要附图
    一种集成电路及其组合电容与实现方法
  • 说明书附图:图1
    一种集成电路及其组合电容与实现方法
  • 说明书附图:图2
    一种集成电路及其组合电容与实现方法
  • 说明书附图:图3
    一种集成电路及其组合电容与实现方法
  • 说明书附图:图4
    一种集成电路及其组合电容与实现方法
法律状态
序号 法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
1 2022-12-23 专利权的转移 登记生效日: 2022.12.09 专利权人由深圳市三炎科电子科技有限公司变更为山东润蒙应急救援装备有限公司 地址由518000 广东省深圳市宝安区福永街道和平社区同富裕工业区同富一路A座厂房二楼变更为276000 山东省临沂市高新技术产业开发区罗西街道金山路168号
2 2019-12-24 授权
3 2019-12-20 专利申请权的转移 登记生效日: 2019.12.03 申请人由王金变更为深圳市三炎科电子科技有限公司 地址由518000 广东省深圳市福田区福华一路6号免税商务大厦1403变更为518000 广东省深圳市宝安区福永街道和平社区同富裕工业区同富一路A座厂房二楼
4 2019-12-10 著录事项变更 发明人由王金 变更为王少卿 
5 2015-11-25 实质审查的生效 IPC(主分类): H01L 29/92 专利申请号: 201410532500.X 申请日: 2014.10.11
6 2014-12-17 公开
权利要求
权利要求书是申请文件最核心的部分,是申请人向国家申请保护他的发明创造及划定保护范围的文件。
1.一种集成电路中的组合电容,其特征在于,包括设置在集成电路中的MOS器件;
所述MOS器件上垒加至少一小型电容,并且,每一MOS器件上,还叠加设置一层电容材料,小型电容、电容材料与所述MOS器件共同形成一组合电容,所述小型电容的上极板连接所述MOS器件的栅极,所述小型电容的下极板连接所述MOS器件的源极和/或漏极,所述MOS器件上部设置若干绝缘柱,所述小型电容固定于各所述绝缘柱上,各所述绝缘柱的高度小于其直径,各所述绝缘柱规则排列为行列矩阵,每一所述绝缘柱的顶部设置一凸条,采用电路开关选通MOS器件或所述组合电容;该层电容材料分成相互绝缘的两区域,包括第一区域与第二区域,所述第一区域半包围所述第二区域,所述第一区域为7字形,所述第二区域为矩形。

2.根据权利要求1所述组合电容,其特征在于,还设置一输出电路,其仅连接所述MOS器件。

3.根据权利要求2所述组合电容,其特征在于,还设置一控制开关,控制所述输出电路导通以及组合电容电路关断,或者控制所述输出电路关断以及组合电容电路导通。

4.根据权利要求3所述组合电容,其特征在于,所述控制开关还连接一控制电路,用于接收所述控制电路的控制信号,控制所述输出电路导通或组合电容电路导通。

5.一种集成电路,其特征在于,包括如权利要求1至4中任一项所述组合电容。

6.一种集成电路中的组合电容的实现方法,其特征在于,包括以下步骤:
根据集成电路的版图,在MOS器件上垒加电容材料和至少一小型电容,与所述MOS器件共同形成一组合电容,所述组合电容为如权利要求1至4中任一项所述组合电容,采用电路开关选通MOS器件或所述组合电容。

7.根据权利要求6所述实现方法,其特征在于,为所述组合电容设置至少一连接方式。

8.根据权利要求7所述实现方法,其特征在于,还设置一连接方式为仅连接所述MOS器件。

9.根据权利要求8所述实现方法,其特征在于,选择连接所述组合电容或者仅连接所述MOS器件。
说明书

技术领域

[0001] 本发明涉及集成电路工艺制造,尤其涉及的是,一种集成电路及其组合电容与实现方法。

背景技术

[0002] 在集成电路领域中,芯片的面积大小是与芯片的成本成正比的,而目前的集成电路制造工艺中MOS电容都是采用独立电容,此类电容精度高但是容值有限,当容值很大的时候,要求的面积也很大。
[0003] 并且,在集成电路开发中,版图改版是很频繁的,有时候发现某处电容的容值太小或太大,对功能有影响,如果想把电容的容值提高,这时可能会发现没有空的面积添加,或者有面积加电容但是又考虑改版成本太高。面积减小同样也会关系到改版的费用。
[0004] 特别是在集成电路原理图设计中,所有MOS器件均为独立器件,而这些器件少至几百,多至成千上万,MOS器件上的空间均没有很好的利用起来。
[0005] 独立的MOS器件的平面图如图1所示,其相对应的剖面图如图2所示,其中,端口3为上极板的接出口,例如MOS器件的GATE端,端口1与端口2为电容下极板的接口,例如MOS器件的源极与漏极,端口4为MOS器件的衬底接触。
[0006] 因此,现有技术存在缺陷,需要改进。

发明内容

[0007] 本发明所要解决的技术问题是提供一种新的集成电路及其组合电容与实现方法。
[0008] 本发明的技术方案如下:一种集成电路中的组合电容,其包括设置在集成电路中的MOS器件;所述MOS器件上垒加电容材料,与所述MOS器件共同形成一组合电容。
[0009] 优选的,所述MOS器件上垒加至少一小型电容,与所述MOS器件共同形成一组合电容。
[0010] 优选的,所述小型电容连接所述MOS器件的源极、栅极或漏极。
[0011] 优选的,所述小型电容的上极板连接所述MOS器件的栅极,所述小型电容的下极板连接所述MOS器件的源极和/或漏极。
[0012] 优选的,所述组合电容还设置一输出电路,其仅连接所述MOS器件。
[0013] 本发明的又一技术方案如下:一种集成电路,其包括任一上述组合电容。
[0014] 本发明的又一技术方案如下:一种集成电路中的组合电容的实现方法,其包括以下步骤:根据集成电路的版图,在MOS器件上垒加电容材料,与所述MOS器件共同形成一组合电容。
[0015] 优选的,为所述组合电容设置至少一连接方式。
[0016] 优选的,所述MOS器件上垒加至少一小型电容,与所述MOS器件共同形成一组合电容。
[0017] 优选的,所述实现方法还设置一连接方式为仅连接所述MOS器件。
[0018] 优选的,选择连接所述组合电容或者仅连接所述MOS器件。
[0019] 采用上述方案,在集成电路版图设计中,在同样的面积中可以得到更高的容值,以此来达到缩减面积,降低芯片成本,并且给集电电路版图电容改版提供便捷,便于改图,为集成电路原理图设计提供更多的选择与操作,具有很高的市场应用价值。

实施方案

[0024] 为了便于理解本发明,下面结合附图和具体实施例,对本发明进行更详细的说明。本说明书及其附图中给出了本发明的较佳的实施例,但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本说明书所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
[0025] 需要说明的是,当某一元件固定于另一个元件,包括将该元件直接固定于该另一个元件,或者将该元件通过至少一个居中的其它元件固定于该另一个元件。当一个元件连接另一个元件,包括将该元件直接连接到该另一个元件,或者将该元件通过至少一个居中的其它元件连接到该另一个元件。
[0026] 为了解决芯片的面积与版图改版问题,本发明的一个实施例是,一种集成电路中的组合电容,其包括设置在集成电路中的MOS器件;所述MOS器件上垒加电容材料,与所述MOS器件共同形成一组合电容。所述组合电容应用在集成电路中。又如,采用电路开关选通MOS器件或所述组合电容,这样,在MOS器件工作时将其当作MOS器件使用,MOS器件不工作时,可以当组合电容使用。例如,所述MOS器件上垒加至少一层电容材料,这样,设置方便,应用灵活;又如,所述电容材料为至少一层极板,包括正极板和/或负极板;又如,所述电容材料为一层极板,包括正极板或负极板。例如,所述电容材料为聚酯(POLY)极板或者金属极板等。这样,就能够通过在MOS器件上叠加一层极板形成组合电容来达到减小芯片面积,解决了集成电路电容版图设计及改版的问题,还在一定程度上提高了集成度,提供了新的电路形式。又如,在集成电路中的每一MOS器件上均叠加一层电容材料,例如,可以在版图设计时将所有的MOS器件上均叠加一层电容材料,形成MOS组合电容,然后通过电路开关来达到MOS器件工作时当MOS器件使用,MOS器件不工作时,可以当组合电容使用。优选的,所述MOS器件上叠加一绝缘层,然后再叠加一层或多层所述电容材料。又如,每层所述电容材料之间设置一绝缘层。又如,每层所述电容材料包括一个或者多个电容分区,各电容分区之间绝缘设置。这样,可以灵活实现多电容的组合效果,形成所述组合电容,应用方便。
[0027] 考虑到MOS器件可以当电容使用,例如,为了减小芯片的面积与集成电路电容的改版,本发明提供一种组合电容,可以选择性通过在MOS电容上叠加一层材料以形成MOS组合电容。优选的,所述MOS器件上垒加至少一小型电容,与所述MOS器件共同形成一组合电容。例如,所述小型电容连接所述MOS器件的源极、栅极或漏极。这样,可以方便地设置连接电路,应用简单。优选的,所述小型电容的上极板连接所述MOS器件的栅极,所述小型电容的下极板连接所述MOS器件的源极和/或漏极。优选的,所述MOS器件上部设置若干绝缘柱,所述电容材料或者小型电容固定于各所述绝缘柱上。优选的,各所述绝缘柱的高度小于其直径。
优选的,各所述绝缘柱规则排列为行列矩阵,例如,所述绝缘柱规则排列为2行2列或者2行3列的行列矩阵。优选的,每一所述绝缘柱,其顶部设置一凸条,以增强固定效果。或者,所述电容材料或者所述小型电容粘附固定于所述MOS器件上。
[0028] 又如,每一MOS器件上,叠加设置一层电容材料,该层电容材料分成相互绝缘的两区域,包括第一区域与第二区域。优选的,所述第一区域至少半包围所述第二区域。例如,所述第一区域半包围所述第二区域;例如,所述第一区域为7字形,所述第二区域为矩形;又如,所述第一区域全包围所述第二区域;例如,所述第一区域为环形,所述第二区域为圆形;或者,所述第一区域为具有矩形边缘的环形,所述第二区域为矩形或方形。优选的,第一区域与第二区域面积相同。这样,可以灵活实现多电容的组合效果,形成所述组合电容,应用方便。
[0029] 优选的,所述组合电容还设置一输出电路,其仅连接所述MOS器件。又如,设置一控制开关,控制所述输出电路导通以及组合电容电路关断,或者控制所述输出电路关断以及组合电容电路导通,这样,可以很方便的实现两种应用效果,包括应用MOS器件、或者应用组合电容。优选的,所述控制开关还连接一控制电路,用于接收所述控制电路的控制信号,控制所述输出电路导通或组合电容电路导通。
[0030] 又如,一种组合电容,包括其中的所述MOS器件,共有三个极板5个端口,通过端口的连接方式来调节容值的增大或减小,如图3和图4所示,该组合电容设置4种接法,说明如下。
[0031] 例如,端口1,端口2,端口5连接到一起作为电容的一个极板,端口3为一个极板,端口4根据MOS的类型及电路特性来选择连接VDD或GND。此种连接相当于将MOS电容与PIP电容并联。
[0032] 又如,端口1,端口2,连接到一起作为电容的一个极板,端口5为一个极板,端口3浮空,端口4根据MOS的类型及电路特性来选择连接VDD或GND。此种连接相当于将MOS电容与PIP电容串联。
[0033] 又如,端口3为电容一极板,端口5为一极板,形成PIX电容,其中,X包括所有可以作为电容极板材质的材料,其它端口可根据电路及电学特来连接。
[0034] 又如,端口1与端口2连接在一起为电容一极板,端口3为电容一极板,端口5浮空,端口4根据MOS的类型及电路特性来选择连接VDD或GND。其中,浮空即为空置。
[0035] 本发明的又一实施例是,一种集成电路,其包括上述任一实施例所述组合电容。这样,在集成电路版图设计中,在同样的面积中可以得到更高的容值,以此来达到缩减面积,降低芯片成本;也方便改版设计,具有极高的应用灵活性。
[0036] 本发明的又一实施例如下:一种集成电路中的组合电容的实现方法,其包括以下步骤:根据集成电路的版图,在MOS器件上垒加电容材料,与所述MOS器件共同形成一组合电容。例如,所述组合电容为上述任一实施例所述组合电容。优选的,集成电路中,至少一所述MOS器件上垒加电容材料,与所述MOS器件共同形成一组合电容。又如,集成电路中,每一所述MOS器件上垒加电容材料,与该MOS器件共同形成一组合电容。
[0037] 优选的,为所述组合电容设置至少一连接方式。优选的,所述MOS器件上垒加至少一小型电容,与所述MOS器件共同形成一组合电容。优选的,所述实现方法还设置一连接方式为仅连接所述MOS器件。
[0038] 优选的,选择连接所述组合电容或者仅连接所述MOS器件。又如,采用电路开关选通MOS器件与所述组合电容,这样,在MOS器件工作时将其当作MOS器件使用,MOS器件不工作时,可以当组合电容使用。
[0039] 进一步地,本发明的实施例还包括,上述各实施例的各技术特征,相互组合形成的集成电路及其组合电容与实现方法。
[0040] 需要说明的是,上述各技术特征继续相互组合,形成未在上面列举的各种实施例,均视为本发明说明书记载的范围;并且,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,而所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。

附图说明

[0020] 图1为现有技术的集成电路的MOS器件的平面图;
[0021] 图2为图1对应的剖面图;
[0022] 图3为本发明的一个实施例的组合电容的平面示意图;
[0023] 图4为图3对应的剖面图。
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