[0021] 下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。
[0022] 如图1所示，一种用于装配体介质流道的流体磨料抛光去毛刺系统，包括机架1，机架1上端的左侧分别连接有清洗液制取平台2和抛光装置4，清洗液制取平台2的上端连接有清洗装置5，机架1上端的中部分别连接有热风吹干装置6和控制装置7，机架1上端的右侧连接有抛光平台3，在抛光平台3的上端连接有装配体8，抛光装置4、清洗装置5、热风吹干装置6和装配体8连接，抛光装置4、清洗装置5、热风吹干装置6和控制装置7连接。
[0023] 如图2‑图4所示，所述的抛光装置4包括流体制备装置4‑1，流体制备装置4‑1包括第一制备箱4‑1‑1，第一制备箱4‑1‑1通过第一接头4‑1‑6与电磁泵4‑2上的第四接头4‑2‑1相连接，电磁泵4‑2通过第五接头4‑2‑2与三位四通电磁阀4‑3上的第六接头4‑3‑1相连接，三位四通电磁阀4‑3通过第九接头4‑3‑4与二位四通电磁阀4‑4上的第十接头4‑4‑1相连接，二位四通电磁阀4‑4通过第十三接头4‑4‑4与二位三通电磁阀4‑5上的第十四接头4‑5‑1相连接，二位三通电磁阀4‑5通过第十五接头4‑5‑2与第一制备箱4‑1‑1盖板上的第二接头4‑1‑7相连接；第一制备箱4‑1‑1的顶板上设置有第一进料孔4‑1‑5，第二接头4‑1‑7的下方连接有第一过滤网4‑1‑9，第一制备箱4‑1‑1内侧的侧壁上连接有第一液位传感器4‑1‑4，第一制备箱4‑1‑1内侧的底端连接有第一加热器4‑1‑2和第一温度传感器4‑1‑3，第一制备箱4‑
1‑1内盛有低熔点合金4‑1‑10。
[0024] 如图5‑图7所示，所述的清洗装置5包括清洗液制备装置5‑1，清洗液制备装置5‑1包括第二制备箱5‑1‑1，第二制备箱5‑1‑1通过第十七接头5‑1‑6与齿轮泵5‑2上的第二十接头5‑2‑1相连接，齿轮泵5‑2通过第二十一接头5‑2‑2与三位四通电磁阀4‑3上的第七接头4‑3‑2相连接；第二制备箱5‑1‑1的顶板上设置有第二进料孔5‑1‑5，第二制备箱5‑1‑1顶板上的第十八接头5‑1‑7与二位三通电磁阀4‑5上的第十五接头4‑5‑2相连接，第十八接头5‑1‑7的下方连接有第二过滤网5‑1‑9，第二制备箱5‑1‑1内侧的侧壁上连接有第二液位传感器5‑
1‑4，第二制备箱5‑1‑1内侧的底端连接有第二加热器5‑1‑2和第二温度传感器5‑1‑3，第二制备箱5‑1‑1内盛有清洗液5‑1‑10，第二制备箱5‑1‑1底端的第十九接头5‑1‑8与单项电磁阀5‑3相连接，单项电磁阀5‑3与第一制备箱4‑1‑1上的第三接头4‑1‑8相连接。
[0025] 如图8所示，所述的热风吹干装置6包括鼓风机6‑1，鼓风机6‑1与加热装置6‑2的一端相连接，加热装置6‑2的另一端与三位四通电磁阀4‑3上的第八接头4‑3‑3相连接，在连接加热装置6‑2和第八接头4‑3‑3的导风管6‑4上安装有第三温度传感器6‑3。
[0026] 所述的控制装置7位于鼓风机6‑1和抛光平台3之间的机架1上端面上，控制装置7分别与抛光装置4、清洗装置5和热风吹干装置6电连接。
[0027] 所述的装配体8包括第二十二接头8‑1，第二十二接头8‑1与二位四通电磁阀4‑4上的第十一接头4‑4‑2相连接，装配体8上的第二十三接头8‑2与二位四通电磁阀4‑4上的第十二接头4‑4‑3相连接，装配体8上设置有堵头8‑3。
[0028] 利用一种用于装配体介质流道的流体磨料抛光去毛刺系统的方法，包括以下步骤：
[0029] 步骤1，制备低熔点合金4‑1‑10流体：将固态的低熔点合金4‑1‑10从第一进料孔4‑1‑5放入第一制备箱4‑1‑1中；利用控制装置7启动第一加热器4‑1‑2，加热低熔点合金4‑1‑
10直至设定的温度值A，使得低熔点合金4‑1‑10呈流体状；利用第一温度传感器4‑1‑3监测低熔点合金4‑1‑10的加热温度，利用第一液位传感器4‑1‑4监测低熔点合金4‑1‑10流体的液位；
[0030] 步骤2，双向循环式抛光装配体8上的介质流道：
[0031] (1)第二十二接头8‑1→装配体8→第二十三接头8‑2方向的抛光去毛刺工艺处理：利用控制装置7启动电磁泵4‑2、三位四通电磁阀4‑3、二位四通电磁阀4‑4和二位三通电磁阀4‑5，使得第一制备箱4‑1‑1中的低熔点合金4‑1‑10流体，依次流经第一接头4‑1‑6、第四接头4‑2‑1、电磁阀4‑2、第五接头4‑2‑2、第六接头4‑3‑1、三位四通电磁阀4‑3、第九接头4‑
3‑4、第十接头4‑4‑1、二位四通电磁阀4‑4、第十一接头4‑4‑2、第二十二接头8‑1、装配体8、第二十三接头8‑2、第十二接头4‑4‑3、二位四通电磁阀4‑4、第十三接头4‑4‑4、第十四接头
4‑5‑1、二位三通电磁阀4‑5、第十五接头4‑5‑2、第二接头4‑1‑7和第一过滤网4‑1‑9，再回流到第一制备箱4‑1‑1中，该过程持续进行，以便对位于第二十二接头8‑1和第二十三接头8‑2之间的装配体8上的介质流道进行第二十二接头8‑1→装配体8→第二十三接头8‑2方向的抛光去毛刺工艺处理；
[0032] (2)第二十三接头8‑2→装配体8→第二十二接头8‑1方向的抛光去毛刺工艺处理：利用控制装置7启动二位四通电磁阀4‑4，分别接通第十接头4‑4‑1和第十二接头4‑4‑3、第十一接头4‑4‑2和第十三接头4‑4‑4，以便对位于第二十二接头8‑1和第二十三接头8‑2之间的装配体8上的介质流道进行第二十三接头8‑2→装配体8→第二十二接头8‑1方向的抛光去毛刺工艺处理；可依据抛光去毛刺的工艺要求，分别接通装配体8上各个介质流道，而用堵头8‑3封堵其他流道，依次进行抛光去毛刺的工艺处理；
[0033] 步骤3，加热清洗液5‑1‑10：使用的低熔点合金4‑1‑10的熔点在50℃‑90℃之间，因此选用纯净水作为清洗液5‑1‑10；将清洗液5‑1‑10从第二进料孔5‑1‑5放入第二制备箱5‑1‑1中；利用控制装置7启动第二加热器5‑1‑2，加热清洗液5‑1‑10直至设定的温度值B，温度值B高于温度值A；利用第二温度传感器5‑1‑3监测清洗液5‑1‑10的加热温度，利用第二液位传感器5‑1‑4监测清洗液5‑1‑10的液位；
[0034] 步骤4，清洗装配体8上的介质流道：利用控制装置7启动齿轮泵5‑2、三位四通电磁阀4‑3、二位四通电磁阀4‑4和二位三通电磁阀4‑5，使得第二制备箱5‑1‑1中的清洗液5‑1‑10，依次流经第十七接头5‑1‑6、第二十接头5‑2‑1、齿轮泵5‑2、第二十一接头5‑2‑2、第七接头4‑3‑2、三位四通电磁阀4‑3、第十接头4‑4‑1、第十一接头4‑4‑2、第二十二接头8‑1、装配体8、第二十三接头8‑2、第十二接头4‑4‑3、二位四通电磁阀4‑4、第十三接头4‑4‑4、第十四接头4‑5‑1、二位三通电磁阀4‑5、第十六接头4‑5‑3、第十八接头5‑1‑7、第二过滤网5‑1‑9，再回流到第二制备箱5‑1‑1中，该过程持续进行，以便对位于第二十二接头8‑1和第二十三接头8‑2之间的装配体8上的介质流道进行清洗；经过清洗回流到第二制备箱5‑1‑1中的低熔点合金4‑1‑10，逐渐沉淀在第二制备箱5‑1‑1底部的凹槽中，利用控制装置7启动单项电磁阀5‑3，使得低熔点合金4‑1‑10经过第十九接头5‑1‑8、电磁阀5‑3和第三接头4‑1‑8，回收到第一制备箱4‑1‑1中；
[0035] 步骤5，吹干装配体8上的流道：利用控制装置7启动鼓风机6‑1和加热装置6‑2制取热风，然后将热风依次经过第八接头4‑3‑3、三位四通电磁阀4‑3、第九接头4‑3‑4、第十接头4‑4‑1、二位四通电磁阀4‑4、第十一接头4‑4‑2和第二十二接头8‑1，输送至装配体8，以便吹干装配体8上的流道，此时，除了第二十二接头8‑1以外，装配体8上的其他接头均需打开，使得热风能够将流道内气化的清洗液5‑1‑10带出装配体8；
[0036] 步骤6，装配体8介质流道的抛光去毛刺工作结束。
